消光劑的分散質量如何控制？
消光劑的分散質量如何控制？
當消光劑使用時，有必要測量涂料的細度或赫格曼Ö(Hegmann value)，，以獲得分散程度的信息。
再者，我們還能控制消光60°范圍的光澤度。
從從以上所提及的主要參數中，我們可以看到產品表現的光澤性能夠控制。
此此外，測 60°和º 85°的的光澤度對于我們更進一步理解消光度也是十分必要的。
結構較高時，分散性較好的現象，可以這樣解釋：結構高的消光劑有較多的孔隙，在混煉開始時聚合物會滲入孔隙，然后，當附聚體受到混煉剪切力、被破壞為聚集體時，在聚合物中就會分散得較好。
而結構較低的傳統消光劑在混合開始時就被壓得很實，很難分散。
當消光劑使用時，有必要測量涂料的細度或赫格曼Ö(Hegmann value)，，以獲得分散程度的信息。
再者，我們還能控制消光60°范圍的光澤度。
從從以上所提及的主要參數中，我們可以看到產品表現的光澤性能夠控制。
此此外，測 60°和º 85°的的光澤度對于我們更進一步理解消光度也是十分必要的。
既然沒有一個與常用消光劑的涂料體系進行比較的規則，做為一個可以接受的方法，粒度值有時也是可以定義的。
細度常可大Ó 25微米，比如二氧化硅消光劑。
減小粒度值，則降低消光效果，增加光澤。
細度常可大Ó 25微米，比如二氧化硅消光劑。
減小粒度值，則降低消光效果，增加光澤。
⒈使用(yong)添加(jia)消光劑(ji)的涂(tu)料進行涂(tu)刷好處多
涂料涂刷在物體表面上后，通過消光劑溶劑的揮發而固化成Ä針對溶劑型涂料而用。。
涂料涂膜的形成過程對涂膜的表面粗糙程度和光澤至關重要。
在在濕膜階段，溶劑的揮發速率受溶劑在涂膜表面的擴散控制，當溶劑的各組分揮發速率差別不大時，有可能得到高光澤的表面。
涂料涂膜的形成過程對涂膜的表面粗糙程度和光澤至關重要。
在在濕膜階段，溶劑的揮發速率受溶劑在涂膜表面的擴散控制，當溶劑的各組分揮發速率差別不大時，有可能得到高光澤的表面。
反之，當溶劑的各組分在濕膜階段的揮發速率不相同時，它會使聚合物分子傾向于形成卷曲，甚至析出，變成大小不一的顆粒或團狀物，涂膜表面呈現出凹凸不平。
在在干膜階段，溶劑的揮發速率主要受溶劑在涂抹整體里的擴散控制，也會對涂膜表面的粗糙程度產生影響。
在在干膜階段，溶劑的揮發速率主要受溶劑在涂抹整體里的擴散控制，也會對涂膜表面的粗糙程度產生影響。
此(ci)外(wai)，在消(xiao)光劑涂(tu)(tu)(tu)膜(mo)的(de)形成(cheng)過程中，隨溶劑的(de)揮發，涂(tu)(tu)(tu)膜(mo)會(hui)變(bian)薄并收縮，涂(tu)(tu)(tu)料中的(de)一(yi)些懸浮的(de)重粒子就會(hui)在涂(tu)(tu)(tu)膜(mo)表面重新排列(lie)，造成(cheng)涂(tu)(tu)(tu)膜(mo)表面的(de)不平整。
⒉高分散性消(xiao)光劑與其表面積有很大關系
和傳統消光劑一樣，高分散性消光劑的表面積較高時，補強性能也較好。
在在表面積較大時，補強性能較好，但是加工性能卻較差。
同等表面積的高分散性消光劑，其補強性能比傳統消光劑的好。
在在表面積較大時，補強性能較好，但是加工性能卻較差。
同等表面積的高分散性消光劑，其補強性能比傳統消光劑的好。
表面積高的消光劑有較高的硅烷醇基團濃度，游離的硅烷醇基團與促進劑會發生強烈的相互作用，將導致膠料的硫化速率降低。
當消光劑µBE表表面積超¹20㎡©·時Ê便便會導致硫化速率過低。
因此，高分散性消光劑µBE表表面積一般不超¹20㎡©·。。
消光劑的結構較高時，分散性較好，硫化速率也較高。當消光劑µBE表表面積超¹20㎡©·時Ê便便會導致硫化速率過低。
因此，高分散性消光劑µBE表表面積一般不超¹20㎡©·。。
結構較高時，分散性較好的現象，可以這樣解釋：結構高的消光劑有較多的孔隙，在混煉開始時聚合物會滲入孔隙，然后，當附聚體受到混煉剪切力、被破壞為聚集體時，在聚合物中就會分散得較好。
而結構較低的傳統消光劑在混合開始時就被壓得很實，很難分散。
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